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電解化學機理探討

電解化學機理探討

金屬電化學拋光為什么能使表面變平變亮,一直是從事拋光技術工作者和有興趣的人士所關心和討論的問題。但是由于拋光過程的復雜性和工蘿古渙的霧碰性-騎估鬧驕至今未有一致的看法和識。

早發現并利用電化學拋光技術的Jacguet認為,當某一粗糙金屬表面在有利于腐蝕的條件下受到陽極作用時,由于電阻方面的原因,在凸出的部位電流密度將最寸大,這些凸起部位和凹洼部位相比將以更快的速度優先溶解。這里所講的電阻原因是指拋光己溶液具有很大的黏稠忡,當電流通過電解質溶液時,陽極表面生成了一層由溶解產物和黏液組成的黏膜,它具有比一般電解液更高的電阻,而這層黏膜的厚度在粗糙表面面的各部位是不相同的,

E凸出處薄些(hi),在凹洼處厚些(h2),相應的,其電阻也不同,薄層電阻小,電流大,膜厚處電阻大,電流小,因此凸出部位溶解速度快。這就是早期提出的黏膜理論。這一情況并非Jacquet和其他人為了電拋光的目的而使用的溶所特有的,它們幾乎發生在所有的電化學拋光槽液中。Edwards用密紋唱片制造商所用的刻槽銅版研究時發現,即使是在電拋jt能很好的槽液中,凸點處和低凹彝處的電流密度之E比,也不隨著從不適合拋光的條件轉到適合拋光的條件而發生顯著變化。刻槽銅版上的起伏比起平而不亮的表面上的不規則起伏來,當然要大得多。雖然幾乎所有的槽液都能起到陽極整平的作用,但是只有不多的一些槽液才能起到陽極的拋光作用;而且即使是這些槽液,也只有在某些電位和電流密度


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