電化學拋光設備,電解化學拋光
電化學拋光設備的設計及制造主要由拋光工藝的要求而定，主要有三種形式。大多數(shù)情況下采用靜態(tài)的電化學拋光設備，這種設備結構簡單，施工方便，造價低廉，一次性能拋光大面積的工件。由于拋光工件特殊需要而設計的動態(tài)電化學拋光設備，是根據(jù)不同的工藝條件要求采用不同形式的設備，一般是考慮拋光精密零件對尺寸及拋光質(zhì)量的嚴格要求而設計。另外一種是電化學拋光和其他拋光方法組合而設計的復合型電化學拋光設備。
電化學拋光設備,電解化學拋光
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